當(dāng)前位置:首頁>科技> 5nm芯片無需光刻機(jī)!中國科技公司已申請制造專利
發(fā)布時間:2026-01-17閱讀( 9)
【手機(jī)中國新聞】9月15日,手機(jī)中國注意到,天眼查App顯示,上海創(chuàng)消新技術(shù)發(fā)展有限公司申請的“5納米芯片制造的直接蝕刻方法”專利公布。摘要顯示,該發(fā)明涉及芯片設(shè)計及制造,方案是:按5nm蝕刻線寬設(shè)計芯片版圖,設(shè)計蝕刻掩模版后,用激光直寫光刻機(jī)刻出蝕刻掩模版;晶圓準(zhǔn)備好后將蝕刻掩模版緊靠晶圓上表面,用等離子體進(jìn)行干法蝕刻,蝕刻結(jié)束后移去蝕刻掩模版,清潔晶圓,進(jìn)行后續(xù)常規(guī)的芯片制造步驟。這項發(fā)明的亮點在于,不用EUV光刻機(jī)或DUV光刻機(jī),不需要光刻過程,直接蝕刻就可以制造5納米芯片。

天眼查顯示,上海創(chuàng)消新技術(shù)發(fā)展有限公司成立于2019年3月,法定代表人為劉明革,注冊資本50萬人民幣,經(jīng)營范圍包括電子技術(shù)、化工技術(shù)、建筑技術(shù)、生物技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開發(fā)等,由劉明革和劉佳慧共同持股。



未來幾年,我們期待上海創(chuàng)消新技術(shù)發(fā)展有限公司能夠在芯片制造領(lǐng)域取得更多的突破性成果,并將這項新技術(shù)推向商業(yè)化階段。#紅與白#對于整個半導(dǎo)體行業(yè)來說,這種創(chuàng)新技術(shù)的出現(xiàn)無疑帶來了新的希望和動力,推動行業(yè)不斷向前發(fā)展,邁向更先進(jìn)的制造工藝和更廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域。#林依晨演過哪些電影#盡管目前這項技術(shù)還處于實驗室階段,但是其潛在的影響力不容忽視。
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