導(dǎo)讀光刻機(jī)可以分為用于生產(chǎn)芯片、用于封裝和用于LED制造按照光源和發(fā)展前后，依次可分為紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、極紫外光源（EUV），光源的波長影....

光刻機(jī)可以分為用于生產(chǎn)芯片、用于封裝和用于LED制造按照光源和發(fā)展前后，依次可分為紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、極紫外光源（EUV），光源的波長影光刻機(jī)的工藝光刻機(jī)可分為接觸式光刻、直寫式光刻、投影式光刻，今天小編就來聊一聊關(guān)于5nm光刻機(jī)的原理?接下來我們就一起去研究一下吧!

5nm光刻機(jī)的原理

光刻機(jī)可以分為用于生產(chǎn)芯片、用于封裝和用于LED制造。按照光源和發(fā)展前后，依次可分為紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、極紫外光源（EUV），光源的波長影光刻機(jī)的工藝。光刻機(jī)可分為接觸式光刻、直寫式光刻、投影式光刻。

原理：接近或接觸式光刻通過無限靠近，復(fù)制掩模板上的圖案；直寫式光刻是將光束聚焦為一點(diǎn)，通過運(yùn)動(dòng)工件臺(tái)或鏡頭掃描實(shí)現(xiàn)任意圖形加工。投影式光刻光刻因其高效率、無損傷的優(yōu)點(diǎn)，是集成電路主流光刻技術(shù)。