一直以來芯片都是制約我國先進制造業發展的一個重要瓶頸，因為目前我國自己沒法生產出高端的芯片，而我國之所以沒法自己生產高端芯片，因為我們沒有高端的光刻機。

國產28nm光刻機最新消息：

2019年之前我國自主研發的光刻機已經實現并量產的只有90納米，45納米以上的光刻機還處于實驗或者研究階段。

不過最近一段時間我國傳出了好消息，由上海微電子自主研發的28納米工藝沉浸式光刻機目前已經取得了突破，預計在2021年到2022年將交付第1臺機器。

我國光刻機技術直接從90納米工藝越過45納米，直接跳到28納米，這個進步確實是非常明顯的。

不過28nm光刻機跟目前全球最頂尖的7nmEUV光刻機仍然有很大的差距，基于7nmEUV光刻機，目前臺積電已經開始量產5納米的芯片了，所以即便我國研發出28納米的光刻機，但短期之內想要解決7納米以上的芯片難度仍然是非常大的，未來我國7納米以上芯片仍然嚴重依賴進口。

但我國研發出的28納米光刻機，我個人認為對電子產品市場會有一定的影響，只是影響不會太大。

我國作為全球芯片消費最大的國家之一，每年有大量的芯片都依賴進口，比如2019年一年我們進口的芯片就達到2萬億人民幣以上，在這些芯片當中既包括高端的芯片，也包括了一些中低端芯片。

假如未來我國28納米光刻機正式投產了，那么我國芯片產能將會大幅得到提升，而且能夠自主生產的不僅僅是28納米的芯片，還有可能包括更高工藝的芯片。

雖然28納米光刻機跟目前ASML7納米光科技仍然有很大的差距，但是28納米的光刻機通過工藝上的改進，并通過多重曝光之后，是可以生產出比28納米更高工藝的芯片的，配合工藝改進，28納米的光刻機可以用來生產14納米、12納米甚至是7納米的芯片。#BBQ是什么意思：在野外燒烤(在國內也指燒味類的食物)#

28nm光刻機可以加工多少nm的芯片：

假如未來基于28納米光刻機能生產出10納米以上的高端芯片，那么我國就可以減少對芯片的進口依賴，這樣我國生產的一些電子產品成本就有可能出現下降。#黑寡婦#

畢竟對于各種電子產品來說，芯片的成本是比較高的，如果芯片的生產成本降低了，那么電子產品的整機價格也會跟著下降，這對于整個電子產品來說無疑會產生一定影響。

不過目前全球的電子產品朝著越來越高端化發展，電子產品所使用的芯片工藝越來越高，特別是對于手機這些更新換代比較快的電子產品來說，我國生產出的28納米光刻機其實不會有太大的影響。

因為對于各大電子廠商來說，他們想要維持市場的競爭力，就必須使用最先進的芯片工藝，特別是對于頭部手機廠家來說，想要維持市場競爭力，他們每年都會推出新的旗艦機，而這些旗艦機所搭載的都是當前最先進的芯片工藝。

而目前全球已經實現5納米芯片的量產，未來幾年3納米甚至2納米芯片都有可能量產。

在這種背景之下，即便我國生產出28納米的光刻機了，但是跟國際頂尖的芯片水平仍然有很大的差距，所以我國芯片還有很長的路要走。#韓甜甜幾歲了#

但是我國能夠從90納米光刻機直接突破到28納米，這是一個非常明顯的進步，我相信按照目前我國對芯片的投入以及各大企業對芯片的重視程度，未來我國光刻機研究肯定會取得更大的進步。

從這幾年手機的變化可以看出芯片從28nm到現在的7nm是一種科技炒作，從應用上看50～100nm都能滿足現在的通信設備使用，國際上為什么要炒作7、5、3n?m芯片，是為了提高自己的科技地位，隨著電池續航能力的提高也就解決了芯片的耗電問題，也不在呼芯片大一點小一點對產品設計的影響，所有設備還是以滿足消費者和實用為主，芯片線路越小，工藝復雜，也會帶來成本的增加和出錯率的增加，更不實合電子產品的開發利用，我們現在很多人都還有蘋果4和其它老手機在用，除了內存容量不足，使用還是可以接受，也就是說芯片線路不是越細越好，而是功能設計和云存與手機的互連互通，保證信息存儲空間，解決電池續航能力就完全滿足通信設備需求，我看中國的發展不會因芯片的個位n?m的影響，也不必擔心美國用科技進步來壓制中國，為中國進入新時代點贊。

我國28nm光刻機一旦下線量產，對我們的芯片制造產業會帶來巨大影響，而我們半導體產業的發展必將影響整個世界半導體行業的走向。#華晨宇前女友#

很多人可能以為28nm光刻機可能只能做28nm的芯片，事實上這種理解是完全錯誤的。#范冰冰個人資料#28nm的光刻機通過多重曝光是可以實現更先進制程芯片的生產制造，除了28nm芯片外，也可用來生產14nm、12nm，10nm等芯片。如果有更好的套件精度，通過多重曝光甚至可以實現7nm制程芯片生產。

當年臺積電最初的7nm制程芯片也是使用多重曝光技術來實現的，真正的7nm EUV光刻機其實是用來生產5nm、3nm這類更先進制程的芯片。#風云人物#

因此，有了28nm光刻機，我們理論上可以實現7nm芯片制程的生產。這個制程已經可以滿足華為麒麟980、990這樣高端芯片的生產需求了。

但是，我們僅有先進的光刻機其實還不行，在代工技術上我們仍需要提高。同樣的光刻機在臺積電手里可以實現7nm制程芯片，而在中芯這邊就只能是14nm制程，在代工技術上我們仍舊有不小的差距，需要中芯等代工廠商努力提高。

現階段中芯研發出的最先進制程達到了N+2，實際可以達到7nm高性能版要求，未來或許可以配合國產的光刻機進行生產。

光刻機和代工技術的發展必定會推動我們整個半導體產業的發展，因為從此基本解決了我國大部分芯片的生產問題。

現在7nm制程以下的高端芯片需求量看似很大，但是放眼整個芯片產業，那就是極少一部分，僅僅是手機上需要，包括AMD電腦芯片，剩下大部分產業可以用10nm、12nm、14nm，28nm，甚至是65nm芯片都能用。

這種情況下，我們就能做到自給自足，同時還能對外搶占中端市場，未來在光刻機領域或許就只有中荷兩國競爭了，日系廠商基本處于被淘汰邊緣了。

一旦我們的芯片能完全自主生產，華為這樣的企業就再也不用擔心被斷供的問題，可以放心大膽的在前面沖鋒陷陣。

28nm光刻機如果能準時量產那我們和荷蘭ASML的差距又縮小了，基本可以上超過了日系廠商，同時這也將促進國產芯片在高端領域的高速發展，未來將徹底擺脫只能在低端或者下游領域混飯吃的局面，從此逆襲走向新發展之路。當然，我們還是得認清和荷蘭ASML的差距，10年之內應該仍舊追不上人家。