9月1日，荷蘭針對先進半導體設備出口的新規正式生效。

荷蘭光刻巨頭ASML就此事回應稱：“荷蘭政府已經頒發了我們截至9月1日所需的許可證，允許ASML今年繼續發運TWINSCAN NXT:2000i及后續推出的浸潤式光刻系統。”

不過，ASML還稱：“我們的客戶也已知悉出口管制條例所帶來的限制，即自2024年1月1日起，ASML將基本不會獲得向中國客戶發運這些設備的出口許可證。”

據悉，ASML在6月與美國達成了一項協議，被要求尋求許可證，才能出口其最先進的技術。隨后，在當地時間6月30日，荷蘭宣布了新的出口管制措施，要求阿斯麥在出口一些高級設備時必須申請出口許可證。也就是9月1日執行的這份。

一、管制條例須知：并非限制所有光刻機

根據新出口管制條例規定，此次荷蘭出臺的相關出口管制規定主要針對特定的先進半導體制造設備，包括EUV薄膜生產設備、光刻設備、沉積設備、外延生長設備等，具體涉及到薄膜沉積、光刻等半導體制造鏈路中的重點工藝。#董潔個人資料#并非所有浸潤式DUV光刻系統。

ASML在此前的聲明中也重點指出，荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及TWINSCAN NXT：2000i及后續推出的浸潤式光刻系統（DUV，深紫外光刻）。#任務欄#而該公司的EUV光刻（極紫外光刻）系統在此前已經受到限制，其它光刻系統，以及更低端的光刻設備的出口未受荷蘭政府管控。#利瑪竇是哪國人?他是意大利人嗎？#

從類型來看，ASML覆蓋了干式DUV光刻機、浸沒式DUV光刻機及EUV光刻機（目前全球最先進的光刻機）。#百度百科#

ASML浸潤式（DUV）光刻機有4大型號：TWINSCAN NXT:2100i、TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:1980Di。

其中1980Di光刻系統是ASML10年前推出的老型號，2000i、2050i、2100i都是在1980di的基礎上進行升級的版本，可用于7nm以上制造。目前1980Di效率相對較低，也是目前浸潤式光刻機中唯一不被限制的。其支持NA 1.35光學器件，分辨率可達38nm以下，理論上可以應用于7nm技術的生產。#高速公路#

據悉，臺積電的第一代7nm工藝就是基于NXT:1980Di實現的，后來才升級為EUV 7nm工藝。不過，由于步驟更為復雜，成本更高。#張子宇#目前大多數晶圓廠使用1980Di光刻機主要生產14nm及以上工藝芯片，很少使用它來生產7nm芯片。

二、光刻機行業現狀：后起之秀—上海微電子

光刻機作為芯片制造的核心設備之一，除了ASML之外，還有日本尼康/NIKON、佳能/Canon，以及我國“上海微電子”具備制造（前道）光刻機量產能力。

根據應用范圍光刻機分為：前道光刻機、后道光刻機、LED光刻機和面板光刻機。其中前道光刻機，用于芯片制造的光刻機，曝光工藝極其復雜；后道光刻機，主要用于封裝測試，技術難度相對較小。

值得注意的是，用于生產高端芯片的EUV光刻機（可以制造7nm以上）只有ASML具備量產能力。主流手機芯片，如高通驍龍、蘋果系列、聯發科天璣等都使用的是ASML的EUV光刻機。

目前，全球光刻機市場份額被前三大企業占領。2022年全球光刻機市場，ASML占據了82.14%的市場份額；佳能位居第二，占據10.2%的份額，尼康緊隨其后，占據7.65%的份額，這三家廠商合計接近于100%的市場份額。而國產光刻機市場份額幾乎忽略不計。

從出貨量來看，2022年，ASML前道光刻機出貨345臺，佳能176臺，尼康30臺。尤其是高端領域基本被ASML獨占。

至于上海微電子，并沒有詳細數據。不過，在后道封測光刻機市場上，上海微電子占據國內主要市場份額。據悉，在2022年2月7日，上海微電子正式交付了中國首臺2.5D/3D先進封裝光刻機。在今年年初，昆山同興也達購入了兩臺SMEE封測光刻機。

目前，在IC前道制造方面，上海微電子有SSX600系列光刻機，其中最先進的型號是SSA600/20，可用于90nm制造。在IC后道先進封裝方面，上海微電子有SSB500系列，主要應用200mm/300mm集成電路先進封裝領域。

據7月31日，《新華網》最新消息，上海微電子正致力于研發28nm浸沒式光刻機，預計在2023年年底將國產第一臺SSA/800-10W光刻機設備交付市場。