三氟化氮，化學(xué)式ＮＦ3，常溫下是一種無(wú)色、無(wú)臭、性質(zhì)穩(wěn)定的氣體，是一種強(qiáng)氧化劑。三氟化氮在微電子工業(yè)中作為一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，在離子蝕刻時(shí)裂解為活性氟離子，這些氟離子對(duì)硅和鎢化合物，高純?nèi)哂袃?yōu)異的蝕刻速率和選擇性（對(duì)氧化硅和硅），它在蝕刻時(shí)，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑，同時(shí)在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運(yùn)用。三氟化氮是低毒性物質(zhì)，但是它能強(qiáng)烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織。吸入高濃度ＮＦ３可引起頭痛、嘔吐和腹瀉。長(zhǎng)期吸入低濃度ＮＦ３能損傷牙齒和骨骼，使牙齒生黃斑，骨骼成畸形。與還原劑能發(fā)生強(qiáng)烈反應(yīng)，引起燃燒爆炸。